近日，荷兰光刻巨头ASML宣布，将优先向英特尔交付其新型高数值孔径(HighNAEUV)EUV光刻机。
据悉，每台新机器的成本超过3亿美元，这可以帮助电脑芯片制造商生产更小、更快的半导体。
现场照片被发布在ASML的官方社交媒体账号上。如图所示，光刻机的一部分被放置在保护盒中。箱子系着红色的丝带，正准备从荷兰埃因霍温的总部发货。
十年的开创性科学和系统工程值得我们致敬！我们很高兴和自豪地向英特尔交付了我们的第一台大数值孔径EUV光刻机。ASML表示。
据了解，高数值孔径的EUV光刻单元比一辆卡车还大，需要用250个单独的板条箱运输，其中包括13个大集装箱。
据估计，从2026年或2027年起，光刻机将用于商业芯片制造。
公开资料显示，NA数值孔径是光刻机光学系统的一项重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高加工节点。
一般来说，在金属间距降到30nm以下，即对应的工艺节点超过5nm后，小口径数值光刻机的分辨率是不够的，只能使用EUV双曝光或图案。
塑造)技术来辅助。
这不仅会大大增加成本，还会降低良品率。因此，需要更高的数值孔径。
ASML在9月份宣布，将在今年年底前发货第一台高数值孔径EUV光刻机，型号为“TwincanEXE:5000”，可制造2纳米制程甚至更先进的芯片。
