据TrendForce报道，美光计划在日本广岛县新建一家DRAM工厂，预计投资在6,000亿至8,000亿日元(约合277.06亿至369.41亿元人民币)之间。美光计划于2026年初开工建设，目标是在2027年底之前投入运营。将安装极端紫外线光刻设备，并在1伽马(1γ)工艺中生产动态随机存取存储器芯片。
据了解，日本政府已经批准了高达1920亿日元(约合人民币88.66亿元)的补贴，以支持美光的广岛工厂生产下一代芯片。日本经济产业省去年表示，这笔补贴将帮助美光整合ASML提供的EUV光刻设备，生产的芯片将为人工智能(AI)、高性能计算(HPC)和自动驾驶技术提供动力。技术的发展至关重要。
美光在当地有自己的生产设施，但实际上，它早些时候就计划扩大和升级生产线。美光原计划在2024年初之前开始运营新工厂，但由于各种不利的市场条件，最终调整了时间表。此外，美光还在2013年收购了日本DRAM制造商尔必达，获得了4000多名工程师和技术人员，增强了技术实力。
近年来，日本半导体领域呈现复苏趋势。日本经济产业省与各民间部门开展多方面合作，推动相关产业布局和发展。与此同时，有利的汇率政策也促进了工厂建设和投资。然而，日本面临半导体人才短缺的问题，可能需要使用人才发展补贴计划来满足未来的发展需求。
